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硅离子注入聚合物表面改性的研究
引用本文:吴瑜光,张通和,刘安东,张旭,周固.硅离子注入聚合物表面改性的研究[J].中国科学(E辑),2003,33(1):42-46.
作者姓名:吴瑜光  张通和  刘安东  张旭  周固
作者单位:1. 北京师范大学射线束技术和材料改性教育部重点实验室,北京师范大学低能核物理研究所,北京市辐射中心,北京,100875
2. 北京师范大学分析测试中心,北京,100875
基金项目:国家自然科学基金(批准号:50141022),国家863计划(批准号:2001AA38020)资助项目
摘    要:采用MEVVA离子注入机引出的Si离子对聚酯薄膜(PET)进行了改性研究, 原子力显微镜观察表明, 注入后的聚酯膜表面比未注入PET更光滑. 用透射电子显微镜观察了注入聚酯膜的横截面表明, 注入层结构发生了明显的变化. 红外吸收测量揭示了Si-C和C-C的形成. 说明了碳化硅和碳颗粒的形成. 这些颗粒增强了注入层表面强化效果, 改善了表面导电特性. 表面电阻率随注入量的增加而明显地下降. 当硅注入量为2×1017 cm-2时, PET表面电阻率小于7.9 W·m. 用纳米硬度计测量显示, Si离子注入可明显地提高聚酯膜表面硬度和杨氏模量. 表面硬度和杨氏模量分别比未注入PET时大12.5和2.45倍. 硅注入表面划痕截面比未注入PET的划痕窄而浅. 说明表面抗磨损特性得到了极大的增强. 最后讨论了Si离子注入聚酯膜改善特性的机理.

关 键 词:摩擦特性  表面结构变化  聚合物表面强化机理  Si离子注入
收稿时间:2002-01-24
修稿时间:2002-08-14
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