| 硼扩散杂质分布研究 |
| |
| 引用本文： | 王荣,尚世琦.硼扩散杂质分布研究[J].辽宁大学学报(自然科学版),1994,21(2):38-43. |
| |
| 作者姓名： | 王荣 尚世琦 |
| |
| 作者单位： | Wang Rong Shang Shiqi Yang Xuechang Department of Electronic Science and Engineering，Liaoning University |
| |
| 摘 要： | 本文介绍了用阳极氧化和化学剥层技术测定硅中硼扩散杂质分布的方法．给出了几种不同扩散气氛下硼扩散杂质在硅中分布的实验曲线．并与高斯杂质分布函数做了比较．发现高斯理论杂质分布与实验结果有很大偏差．本文对产生这种偏差的物理机制做了较详细的讨论．
|
| 关 键 词： | 硼扩散 杂质分布 半导体 硅 |
A Study on Distribution of Boron Diffusion Impurties in Silicon |
| |
| Wang Rong Shang Shiqi Yang Xuechang.A Study on Distribution of Boron Diffusion Impurties in Silicon[J].Journal of Liaoning University(Natural Sciences Edition),1994,21(2):38-43. |
| |
| Authors: | Wang Rong Shang Shiqi Yang Xuechang |
| |
| Institution: | Wang Rong Shang Shiqi Yang Xuechang Department of Electronic Science and Engineering,Liaoning University |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Boron diffusion impurities distribtion Arodic oxidation |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ |
