| 薄膜厚度对ZAO透明导电膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 靳铁良,殷胜东. 薄膜厚度对ZAO透明导电膜性能的影响[J]. 内蒙古师范大学学报(自然科学版), 2007, 36(4): 466-469 |
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| 作者姓名： | 靳铁良 殷胜东 |
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| 作者单位： | 平顶山学院,物理学与电气信息工程学院,河南,平顶山,467002;重庆师范大学,物理学与信息技术学院,重庆,400047 |
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| 摘 要： | 采用直流反应磁控溅射法,用Al含量为2%的Zn/Al合金靶材,室温下在玻璃衬底上制备了ZAO透明导电薄膜样品.在其他参数不变的情况下,由不同溅射时间得到不同的薄膜厚度,研究了薄膜的结构性质、光学和电学性质随薄膜厚度的变化关系.制备的ZnO:Al薄膜具有(002)面的单一择优取向的多晶六角纤锌矿结构,电阻率为5.1×10-4Ω.cm,平均透射率达到88%.
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| 关 键 词： | 直流反应磁控溅射 ZAO薄膜 厚度 光电性能 |
| 文章编号： | 1001-8735（2007）04-0466-04 |
| 收稿时间： | 2006-12-20 |
| 修稿时间： | 2006-12-20 |
Thickness Dependence of Properties of ZnO:Al Transparent Conducting Films |
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| JIN Tie-liang,YIN Sheng-dong. Thickness Dependence of Properties of ZnO:Al Transparent Conducting Films[J]. Journal of Inner Mongolia Normal University(Natural Science Edition), 2007, 36(4): 466-469 |
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| Authors: | JIN Tie-liang YIN Sheng-dong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | DC reactive magnetron sputtering ZAO film film thickness optical and electrical properties |
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