| 中频反应磁控溅射制备氧化铝薄膜的工艺探索 |
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| 引用本文： | 何国金,郭太良.中频反应磁控溅射制备氧化铝薄膜的工艺探索[J].漳州师范学院学报,2004,17(2):39-42,30. |
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| 作者姓名： | 何国金 郭太良 |
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| 作者单位： | 福州大学物理与信息工程学院,福建福州350002 |
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| 摘 要： | 采用中频反应磁控溅射工艺进行氧化铝薄膜的沉积实验,研究了反应气体(O2)含量和溅射功率与薄膜沉积速率的关系,并探讨了氧化铝薄膜制备过程中存在的"迟滞回线"问题.
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| 关 键 词： | 氧化铝薄膜 反应磁控溅射 沉积速率 迟滞回线 |
| 文章编号： | 1008-7826(2004)02-0039-04 |
| 修稿时间： | 2004年3月18日 |
Deposition of Aluminum oxides films by medium frequency reactive magnetron sputtering |
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| HE Guo-jin,GUO Tai-Liang.Deposition of Aluminum oxides films by medium frequency reactive magnetron sputtering[J].Journal of ZhangZhou Teachers College(Natural Science),2004,17(2):39-42,30. |
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| Authors: | HE Guo-jin GUO Tai-Liang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Aluminum oxide film reactive magnetron sputtering deposited rate Hysteresis loop |
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