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| 金刚石薄膜的紫外区电致发光 | |
| 作者姓名： | ()张兵临 ()王小平 ()何金田 ()刘大军 ()王建恩 ()Howard R. Shanks |
| 作者单位： | 郑州大学物理系及河南省基础及应用科学研究所，郑州大学物理系及河南省基础及应用科学研究所，郑州大学物理系及河南省基础及应用科学研究所，郑州大学物理系及河南省基础及应用科学研究所，郑州大学物理系及河南省基础及应用科学研究所，Microelectronics Rescarch Center，Iowa State University，Ames，LA 50010，USA 郑州 450052，郑州 450052，郑州 450052，郑州 450052，郑州 450052 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
| 摘 要： | 金刚石薄膜在光谱蓝区的电致发光已有过一些研究工作。然而迄今为止,金刚石薄膜在紫外光谱区的电致发光现象尚未见有报道。我们采用了非晶金刚石薄膜——本征金刚石薄膜——掺杂金刚石薄膜3层结构,制备了电致发光器件。观察到在近紫外光谱区380nm处有一发光主峰。 为了提高金刚石薄膜的成核密度,改善薄膜的均匀性,我们采用脉冲激光沉积技术首先在硅衬底上沉积一层非晶金刚石薄膜。非晶金刚石薄膜脉冲激光沉积的实验装置已在文献[4]中有过详细描述。采用波长355nm,重复频率5Hz的Q开关3次谐波YAG激光器,激光功率密度为3.5×10~8W/cm~2。沉积时间5min,获得的非晶金刚石薄膜厚度为0.15μm,电阻率为1.33×10~6Ω·cm。为了提高电致发光器件的击穿电压,再利用微波CVD系统在非晶金 |
| 关 键 词： | 金刚石薄膜 电致发光 紫外光谱区 薄膜 |
| 收稿时间： | 1995-07-05 |
| 修稿时间： | 1995-09-30 |
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