| 氧化硅材料光活性缺陷中心研究进展 |
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| 引用本文： | 徐光青,郑治祥,汤文明,刘君武,吕珺,王建民.氧化硅材料光活性缺陷中心研究进展[J].合肥工业大学学报(自然科学版),2006,29(6):641-645. |
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| 作者姓名： | 徐光青 郑治祥 汤文明 刘君武 吕珺 王建民 |
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| 作者单位： | 合肥工业大学,材料科学与工程学院,安徽,合肥,230009;合肥工业大学,材料科学与工程学院,安徽,合肥,230009;合肥工业大学,材料科学与工程学院,安徽,合肥,230009;合肥工业大学,材料科学与工程学院,安徽,合肥,230009;合肥工业大学,材料科学与工程学院,安徽,合肥,230009;合肥工业大学,材料科学与工程学院,安徽,合肥,230009 |
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| 摘 要： | 氧化硅材料在光通信、半导体光电子器件及照明等领域具有广泛应用,对其光学性能研究进行总结、归纳具有重要意义。氧化硅材料本征E’、2种缺氧型以及各种富氧型光活性缺陷中心在光导纤维及紫外吸收等应用中扮演了很重要的作用,某些具有良好发光性能的缺氧中心及掺杂离子或半导体纳米粒子发光中心的深入研究使氧化硅材料在照明领域具有良好的应用前景。对氧化硅材料各类光活性缺陷中心阴离子配位场的修饰将对这些光活性缺陷中心的光学性能产生显著的影响,并有可能进一步提高其发光性能。
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| 关 键 词： | 光学性能 氧化硅 光活性 缺陷中心 |
| 文章编号： | 1003-5060(2006)06-0641-05 |
| 修稿时间： | 2005年6月3日 |
Progress in studies on the optically active defect center in silica |
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| XU Guang-qing,ZHENG Zhi-xiang,TANG Wen-ming,LIU Jun-wu,L Jun,WANG Jian-min.Progress in studies on the optically active defect center in silica[J].Journal of Hefei University of Technology(Natural Science),2006,29(6):641-645. |
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| Authors: | XU Guang-qing ZHENG Zhi-xiang TANG Wen-ming LIU Jun-wu L Jun WANG Jian-min |
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| Institution: | XU Guang-qing,ZHENG Zhi-xiang,TANG Wen-ming,LIU Jun-wu,L(U) Jun,WANG Jian-min |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | optical property silicon dioxide optical activity defect center |
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