射频磁控溅射参数对A1N薄膜光学性能的影响

采用高真空射频磁控溅射技术，在玻璃基片上，分别于不同沉积条件下制备了A1N系列薄膜，测量了从紫外到近红外波段A1N系列薄膜的透射率谱线，利用一种较简单的透射谱包络线法，对薄膜的光学常数进行拟合分析。研究表明，气体流量和工作气压是影响薄膜光学性能的重要参数；在镀膜过程中，增加氮气流量能使铝充分地与氮气结合，有利于薄膜折射率的提高，而在较低的工作气压下获得的薄膜的折射率较大。