| ZnO薄膜的L-MBE动力学机制 |
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| 作者姓名： | 贺永宁 张景文 杨晓东 徐庆安 朱长纯 侯洵 |
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| 作者单位： | 1. 西安交通大学电子与信息工程学院电子科学与技术系,西安,710049
2. 中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学技术国家重点实验室,西安,710068
3. 西安交通大学电子与信息工程学院电子科学与技术系,西安,710049;中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学技术国家重点实验室,西安,710068 |
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| 基金项目： | 国家"211"工程建设项目;西安交通大学校科研和教改项目;"985工程"平台建设培植资助项目 |
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| 摘 要： | 利用自制高纯ZnO陶瓷靶材进行了ZnO薄膜的激光分子束外延(L-MBE)生长, 发现ZnO薄膜的L-MBE生长的沉积速率远低于脉冲激光沉积(PLD)的沉积速率, 并且基于ZnO薄膜生长过程中ZnO靶材与纳秒脉冲激光的刻蚀实验现象, 利用脉冲激光烧蚀ZnO陶瓷靶材的热控制理论对ZnO靶材的低刻蚀速率和ZnO薄膜的低生长速率进行了分析讨论, 对实验结果进行了合理的解释. 分析了等离子体羽辉的形成过程及其动力学特征, 揭示了ZnO薄膜L-MBE生长所具有的独特动力学特性, 即高能等离子体冲击过程中的超饱和超快生长和脉冲间隙的热平衡弛豫的交替过程. 高能沉积粒子和低生长速率对于高结晶质量ZnO薄膜的外延制备是十分有利的.
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| 关 键 词： | 激光分子束外延 动力学机制 ZnO薄膜 |
| 收稿时间： | 2006-04-20 |
| 修稿时间： | 2006-04-202006-09-23 |
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