| 石墨烯薄膜的生长及结构表征研究 |
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| 引用本文： | 蔡晓岚,刘志涛,王菡,王晓敏,王永祯.石墨烯薄膜的生长及结构表征研究[J].太原理工大学学报,2013,44(3):317-320. |
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| 作者姓名： | 蔡晓岚 刘志涛 王菡 王晓敏 王永祯 |
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| 作者单位： | 太原理工大学材料科学与工程学院,太原,030024 |
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| 基金项目： | 山西省自然科学基金，山西省科技攻关资助项目，太原市科技资助项目 |
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| 摘 要： | 在常压条件下,以铜箔为基底、CH4为碳源,通过化学气相沉积法(CVD)生长出了石墨烯薄膜。利用拉曼光谱、扫描电子显微镜、四探针电导率仪表征分析了产物。结果表明:生长温度为1 000℃,H2流量为60mL/min,CH4流量为2.5mL/min,Ar流量为80mL/min时,在基底表面生长出了连续分布的石墨烯薄膜,且大部分区域为单层,同时结晶程度高缺陷小;转移后的石墨烯薄膜面积大、透光性良好,兼具有良好的导电性,其薄层电阻为1 822Ω。
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| 关 键 词： | 石墨烯 常压 化学气相沉积 结构表征 |
Growth and Structural Characterization of Graphene Film |
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| CAI Xiaolan
,
LIU Zhitao
,
WANG Han
,
WANG Xiaomin
,
WANG Yongzhen.Growth and Structural Characterization of Graphene Film[J].Journal of Taiyuan University of Technology,2013,44(3):317-320. |
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| Authors: | CAI Xiaolan LIU Zhitao WANG Han WANG Xiaomin WANG Yongzhen |
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| Institution: | (College of Material Science and Engineering,TUT,Taiyuan 030024,China) |
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| Abstract: | |
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