| 无毒性非氧化物添加剂的Si_3N_4陶瓷的显微组织 |
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| 引用本文： | 袁逸,葛昌纯,陈利民,冯惠平.无毒性非氧化物添加剂的Si_3N_4陶瓷的显微组织[J].北京科技大学学报,1991(Z2). |
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| 作者姓名： | 袁逸 葛昌纯 陈利民 冯惠平 |
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| 作者单位： | 北京科技大学材料科学与工程系
(袁逸)，北京科技大学特种陶瓷粉末冶金研究室
(葛昌纯，陈利民)，北京科技大学材料科学与工程系(冯惠平) |
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| 摘 要： | 采用ZrN作为添加剂热压烧结的Si_3N_4陶瓷材材料进行了透射电子显微镜观察和能谱EDS分析。观察结果表明:烧结的陶瓷中由于晶界残留的玻璃相数量较少,主要分布在三晶粒间界处,从而显著改善了Si_3N_4材料的高温性能;在这种材料中有许多弥散分布的ZrN相存在,可阻碍裂纹扩展,也起着提高Si_3N_4材料的强度和韧性的作用;用高分辨电子显微术观察到α’-Si_3N_4晶粒中存在不同的超结构。
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| 关 键 词： | 氮化硅 显微结构 晶界 |
Microstructure of Si_3N_4 with Non-Toxic, Non-Oxide Additives |
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| Yuan Yi Ge Changchun Chen Limin Feng Huiping.Microstructure of Si_3N_4 with Non-Toxic, Non-Oxide Additives[J].Journal of University of Science and Technology Beijing,1991(Z2). |
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| Authors: | Yuan Yi Ge Changchun Chen Limin Feng Huiping |
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| Institution: | Yuan Yi Ge Changchun Chen Limin Feng Huiping Department of Material Science and EngineeringLaboratory of Special Ceramics and Powder Metallurgy |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | silicon nitride microstructure grain boundary |
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