| 磁共振强磁场中保持稳定悬浮及超顺磁性的微粒粒度研究 |
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| 引用本文： | 桂维玲.磁共振强磁场中保持稳定悬浮及超顺磁性的微粒粒度研究[J].科学技术与工程,2008,8(8):2166-2168. |
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| 作者姓名： | 桂维玲 |
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| 作者单位： | 山东师范大学物理与电子科学学院,济南,250014 |
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| 基金项目： | 山东省科技厅资助项目，山东省教育厅资助项目 |
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| 摘 要： | 用超顺磁性氧化铁制备磁共振造影剂的多篇报道中,Fe3O4磁粒的尺寸大致在15～50nm之间.根据超顺磁性理论推导出显示超顺磁现象的临界尺寸理论值为25nm,在1.5 T磁共振磁场中的临界值为7.1 nm.分析了在强磁场中包覆有表面活性剂的Fe3O4磁粒的粒径在大干理论计算的临界尺寸时,仍有可能保持超顺磁状态.根据磁学理论,分析了磁共振造影剂稳定的机理;推导出在磁共振磁场中,Fe3O4磁粒在造影剂中稳定悬浮的极限尺寸为13.3 nm.指出造影剂中的Fe3O4磁粒既能稳定悬浮又具有超顺磁性的合适尺寸为10 nm左右.
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| 关 键 词： | 超顺磁性氧化铁 磁共振造影剂 临界尺寸 稳定悬浮 |
| 修稿时间： | 2007年12月26 |
Study on the Size of Particals Keep Stable and Uperparamagnetism in MRI High Magnetic Fields |
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| GUI Wei-ling.Study on the Size of Particals Keep Stable and Uperparamagnetism in MRI High Magnetic Fields[J].Science Technology and Engineering,2008,8(8):2166-2168. |
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| Authors: | GUI Wei-ling |
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| Keywords: | |
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