| 微量薄膜Ni—W合金镀层中钨的测定 |
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| 引用本文： | 李新华,姚素薇.微量薄膜Ni—W合金镀层中钨的测定[J].山西大学学报(自然科学版),1999,22(3):255-258. |
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| 作者姓名： | 李新华 姚素薇 |
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| 作者单位： | 雁北师范学院化学系，天津大学应用化学系，太原市小店区一中 |
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| 摘 要： | 研究了微量薄摸Ｎｉ—Ｗ合金镀层中钨的光度法，进行了镀层的溶解、介质选择、显色反应、放置时间及部分离子的干扰试验。测量范围为０μｇ／ｍＬ～１５μｇ／ｍＬ。
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| 关 键 词： | 钨，Ni—W合金，光度法 |
The Determination of W in Thin Micro Ni W Plating Film |
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| Li Xinhua,Guo Yong.The Determination of W in Thin Micro Ni W Plating Film[J].Journal of Shanxi University (Natural Science Edition),1999,22(3):255-258. |
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| Authors: | Li Xinhua Guo Yong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | tungstenl Nickel-Tungsten alloy photometry |
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