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沉积电压对辅助加热PCVD—TiN涂层的影响
作者姓名:赵程 彭红瑞
摘    要:研究了不同的沉积电压对辅助加热式PCVD-TiN涂层的影响。实验证明,提高沉积电压可以细化TiN涂层的柱状晶结构,增加TiN涂层的显微硬度和沉积速率。在试验范围内,涂层内残存的氯含量基本不受沉积电压的影响。

关 键 词:辅助加热式 PCVD 沉积电压 氮化钛 涂层 沉积
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