| 原子力显微镜研究多晶硅和铝硅合金表面形貌 |
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| 引用本文： | 吴敬文 朱伟民. 原子力显微镜研究多晶硅和铝硅合金表面形貌[J]. 应用科学学报, 1996, 14(4): 481-487 |
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| 作者姓名： | 吴敬文 朱伟民 |
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| 作者单位： | [1]东南大学 [2]无锡华晶集团 |
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| 摘 要： | 利用原子力显微镜研究了不同淀积温度条件下低压化学气相淀积多晶硅薄膜的表面形貌。发现淀积时间一定时，随着淀积温度的升高，多晶硅薄膜的晶粒尺寸和表面粗糙度均非线性地增大。
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| 关 键 词： | 原子力显微镜 多晶硅 铝硅合金 表面形貌 薄膜 |
STUDY ON SURFACE MORPHOLOGIES OF POLYCRYS TALLINE SILICON AND ALUMINIUM SILICON ALLOY BY ATOMIC FORCE MICROSCOPY |
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| WU JINGWEN,LU ZHUHONG, WEI YU. STUDY ON SURFACE MORPHOLOGIES OF POLYCRYS TALLINE SILICON AND ALUMINIUM SILICON ALLOY BY ATOMIC FORCE MICROSCOPY[J]. Journal of Applied Sciences, 1996, 14(4): 481-487 |
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| Authors: | WU JINGWEN LU ZHUHONG WEI YU |
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| Affiliation: | WU JINGWEN;LU ZHUHONG; WEI YU(Southeast University)ZHU WEIMING(Wuxi Huajing Electronic Corporation) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | atomic force microscopy polycrystalline silicon aluminium silicon alloy surface morphology |
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