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分类号
杂志ISSN号
质子与Ti离子注入LiNbO3光波导
作者姓名:
阎凤章 张海延
作者单位:
北京师范大学低能核物理研究所,北京邮电大学应用物理系
摘 要:
用180~380keV质子注入LiNbO3造成折射率减小的埋层,以形成近表面处的平面波导;用350keV高注量Ti离子注入增加折射率,在注入区形成平面波导;用不同能量质子叠加注入,退掉由Ti内扩散制成的波导层。离子注入能在纵向与横向上改变LiNbO3的折射率剖面分布,可用于制作集成光学器件。
关 键 词:
光波导 离子注入 铌酸锂
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