| PET基片上射频磁控溅射不同厚度ITO薄膜的光电学特性 |
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| 引用本文： | 郑卫峰,林丽梅,吕佩伟,盖荣权,赖发春.PET基片上射频磁控溅射不同厚度ITO薄膜的光电学特性[J].福建师范大学学报(自然科学版),2013,29(1):48-52. |
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| 作者姓名： | 郑卫峰 林丽梅 吕佩伟 盖荣权 赖发春 |
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| 作者单位： | 福建师范大学物理与能源学院,福建福州,350117 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(11074041);福建师范大学优秀青年骨干教师培养基金(fjsdjx2012011) |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射技术,室温下在PET柔性衬底上沉积不同厚度的掺锡氧化铟(ITO)薄膜,样品的结构、形貌和光电学性质分别用X射线衍射仪、原子力显微镜、分光光度计和Van der Pauw方法测量.实验结果表明:在其它参数不变的条件下,随着溅射时间的增加薄膜的厚度增大,而薄膜的颗粒大小和表面粗糙度也随之变大；方块电阻、电阻率随样品厚度的增加而减小,相应的迁移率减少,载流子浓度变大.当样品厚度为148 nm时,样品的方块电阻为26.5 Ω·口-1、迁移率为19.1 cm2 ·V-1 ·s-1、载流子浓度为8.43×1020 cm-3.
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| 关 键 词： | 掺锡氧化铟薄膜 PET柔性衬底 厚度 磁控溅射 光电学性质 |
The Electrical and Optical Properties of Different Thickness ITO Films Deposited on PET Substrates by RF Magnetron Sputtering |
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| ZHENG Wei-feng
,
LIN Li-mei
,
Lü Pei-wei
,
GAI Rong-quan
,
LAI Fa-chun.The Electrical and Optical Properties of Different Thickness ITO Films Deposited on PET Substrates by RF Magnetron Sputtering[J].Journal of Fujian Teachers University(Natural Science),2013,29(1):48-52. |
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| Authors: | ZHENG Wei-feng LIN Li-mei Lü Pei-wei GAI Rong-quan LAI Fa-chun |
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| Institution: | (College of Physics and Energy,Fujian Normal University,Fuzhou 350117,China) |
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