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IV-VI族稀磁半导体的磁化理论
引用本文:冯红宁,高首山.IV-VI族稀磁半导体的磁化理论[J].辽宁科技大学学报,2011,34(1):1-3,20.
作者姓名:冯红宁  高首山
作者单位:鞍山技师学院,辽宁鞍山,114000;辽宁科技大学理学院,辽宁鞍山,114051
摘    要:简单介绍了IV-VI族稀磁半导体的特性。IV-VI族稀磁半导体的自发磁化、矫顽力和居里温度等性质可由载流子浓度调节。对制造技术导致的缺陷反应迟钝用常规制备方法就可以制备IV-VI族稀磁半导体。作为一种磁离子和载流子能被分别导入和控制的稀磁半导体,IV-VI族稀磁半导体有利于研究稀磁半导体中的铁磁特性。给出了IV-VI族稀磁半导体由独立磁离子杂质、相邻杂质相互作用、晶格反磁性和载流子自旋密度四部分作用组成的总磁化强度的各部分的数学表达式。

关 键 词:稀磁半导体  载流子  磁化强度

Magnetization theory of diluted magnetic semiconductors in IV-VI
FENG Hong-ning,GAO Shou-shan.Magnetization theory of diluted magnetic semiconductors in IV-VI[J].Journal of University of Science and Technology Liaoning,2011,34(1):1-3,20.
Authors:FENG Hong-ning  GAO Shou-shan
Institution:1.Anshan Technician College,Anshan 114000,China;2.School of Science,University of Science and Technology Liaoning,Anshan 114051,China)
Abstract:
Keywords:
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