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| 激励频率对等离子体合成射流的影响 | |
| 作者姓名： | 张攀峰 戴晨峰 刘爱兵 王晋军 |
| 作者单位： | [1]北京航空航天大学流体力学研究所,北京100191 [2]教育部流体力学重点实验室,北京100191 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金（批准号：10872021）和重点高校基础研究基金（批准号：YWF-10-01-A05）资助项目 |
| 摘 要： | 通过求解雷诺平均Navier-Stokes方程模拟了不同激励频率下等离子体合成射流诱导的流场,其中等离子体激励器采用体积力唯象模型模拟.计算结果表明,随着激励频率的增大,激励器诱导的相邻两个涡对的流向间距单调减小,涡对引起的速度波动范围变小,激励频率f=60Hz时,相邻两个周期内所形成的涡对很快融合在一起,下游的流场结构更接近于定常激励的情况.激励频率对等离子体合成射流平均流场几乎没有影响.等离子体激励频率较小时（f〈40Hz）,等离子体合成射流在近壁面区域内的动量随着激励频率的增大而增大,在距壁面较远位置以后,变化趋势相反. |
| 关 键 词： | 等离子体 合成射流 唯象模型 数值模拟 激励频率 |
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