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| 氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 | |
| 引用本文： | 王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时. 氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响[J]. 中山大学学报(自然科学版), 2005, 44(6): 36-40 |
| 作者姓名： | 王贺权 沈辉 巴德纯 汪保卫 闻立时 |
| 作者单位： | 1. 沈阳航空工业学院,机械与汽车学院,辽宁,沈阳,110034;中山大学,物理科学与工程技术学院,广东,广州,510275;东北大学,机械及自动化学院,辽宁,沈阳,110004 2. 中山大学,物理科学与工程技术学院,广东,广州,510275 3. 东北大学,机械及自动化学院,辽宁,沈阳,110004 4. 中国科学院广州能源研究所,广东,广州,510070 |
| 摘 要： | 应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在工作压强为2.0×10-1 Pa,氩气流量为42.6 sccm,溅射时间为30 min的条件下,通过控制氧流量改变TiO2薄膜的光学性质.应用n&k Analyzer 1200分析器测量,当氧流量增加时薄膜的平均反射率降低,同时反射低谷向中心波长(550 nm)处移动,薄膜的消光系数k有增大的趋势,但对薄膜的折射率影响不大.通过XRD和SEM表征发现,随着氧流量的增加金红石相的TiO2增多,并且表面趋于致密平滑. |
| 关 键 词： | 二氧化钛薄膜 直流反应磁控溅射 氧流量 反射率 |
| 文章编号： | 0529-6579(2005)06-0036-05 |
| 收稿时间： | 2005-01-06 |
| 修稿时间： | 2005-01-06 |
Influence of Oxygen Flow on Optical Property of TiO2 Thin Film Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering |
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| WANG He-quan,SHEN Hui,BA De-chun,WANG Bao-wei,WEN Li-shi. Influence of Oxygen Flow on Optical Property of TiO2 Thin Film Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni, 2005, 44(6): 36-40 | |
| Authors: | WANG He-quan SHEN Hui BA De-chun WANG Bao-wei WEN Li-shi |
| Abstract: | |
| Keywords: | TiO2 thin film DC reactive magnetron sputtering oxygen flow reflectance |
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