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远场来流作用下纯熔体液固平直界面的稳定性分析
引用本文:陈明文,王自东,杨伟,孙仁济,吴献明. 远场来流作用下纯熔体液固平直界面的稳定性分析[J]. 北京科技大学学报, 2006, 28(8): 728-732
作者姓名:陈明文  王自东  杨伟  孙仁济  吴献明
作者单位:1. 北京科技大学应用科学学院,北京,100083;北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083
2. 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083
3. 北京科技大学应用科学学院,北京,100083
4. 北海粮油工业(天津)有限公司,天津,300454
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:利用渐近分析方法研究在小的远场来流扰动作用下纯熔体内具有液固平直界面的凝固过程的稳定性,导出了液固界面的扰动振幅变化率与波数的色散关系,以此为基础给出了具有液固平直界面的凝固过程的稳定性判据,揭示了金属凝固过程中液固平直界面转变为胞晶界面的内在机理.

关 键 词:熔体  晶体生长  液固界面  平直界面  渐近分析  远场来流  扰动作用  体液  平直界面  稳定性判据  渐近分析  liquid  planar  analysis  Stability  flow  perturbation  melt  pure  directional solidification  interface  内在机理  晶界面  转变  金属
收稿时间:2005-10-27
修稿时间:2006-03-03

Stability analysis of a planar liquid/solid interface of directional solidification in pure melt under perturbation of a far-field flow
CHEN Mingwen,WANG Zidong,YANG Wei,SUN Renji,WU Xianming. Stability analysis of a planar liquid/solid interface of directional solidification in pure melt under perturbation of a far-field flow[J]. Journal of University of Science and Technology Beijing, 2006, 28(8): 728-732
Authors:CHEN Mingwen  WANG Zidong  YANG Wei  SUN Renji  WU Xianming
Abstract:The stability of a planar liquid/solid interface of solidification in pure melt under perturbation of a small far-field flow was studied by using asymptotic analysis. A dispersion relation between the wave number and perturbation amplification rate was derived,and the morphological stability of planar liquid-solid interface of solidification was determined. The results reveal the mechanism of the transition from planar interface to cellular interface in directional solidification.
Keywords:melt  crystal growth  liquid/solid interface  planar interface  asymptotic analysis
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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