首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

宏观粒子在等离子体中的纯化模型研究
引用本文:何笑明,陶甫廷,王敬义,罗文广.宏观粒子在等离子体中的纯化模型研究[J].华中科技大学学报(自然科学版),2001,29(2):16-18.
作者姓名:何笑明  陶甫廷  王敬义  罗文广
作者单位:1. 华中科技大学电子科学与技术系
2. 广西工学院计算机与电气工程系
基金项目:国家自然科学基金资助项目! (198740 2 2 ),广西自然科学基金资助项目! (9912 0 0 4)
摘    要:从宏观粒子和微观粒子的输运现象及等离子体化学入手 ,建立了宏观粒子沉降过程中的纯化模型 .计算了各类粒子的浓度的径向分布、加速度、速度、沉降时间及杂质的去除总量 .结果表明 ,对于纯度为 99%的Si Ge合金颗粒中的杂质总量可去除 97%左右 .计算结果与实验结果接近

关 键 词:等离子体  宏观粒子  纯化模型
文章编号:1000-8616(2001)02-0016-03
修稿时间:2000年3月10日

Purification Model for Macroscopic Particles in Plasma
He Xiaoming,Tao Futing,Luo Wenguang,Wang Jingyi.Purification Model for Macroscopic Particles in Plasma[J].JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE,2001,29(2):16-18.
Authors:He Xiaoming  Tao Futing  Luo Wenguang  Wang Jingyi
Institution:He Xiaoming Tao Futing Luo Wenguang Wang Jingyi
Abstract:The purification model of macroscopic particles in descending process is established from the transport phenomena of particles and plasma chemicals. The concentration distribution, acceleration, velocity, and descending time of all kinds of particles and the removing amount of the impurities are calculated. Being identical with the experimental effects, the results show that about 97?% of impurities in silicon-germanium alloy powder can be removed.
Keywords:plasma  macroscopic particles  purification model
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号