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深度同步辐射光刻研究
引用本文:田扬赵.深度同步辐射光刻研究[J].科学通报,1995,40(1):83-83.
作者姓名:田扬赵
作者单位:中国科学技术大学国家同步辐射实验室 合肥230026 (田扬赵,洪义麟,付绍军,阚娅,陶晓明),中国科学技术大学国家同步辐射实验室 合肥230026(胡一贯)
基金项目:国家自然科学(青年)基金资助项目
摘    要:80年代中期由Ehrfeld教授及其同事创造的LIGA(in German:Lithographfie Galvano-formung,Abformtecnnik)技术被认为最有前途的超微细加工方法.LIGA技术即是深度同步辐射X射线光刻、电铸成型、塑料铸模等技术相结合的综合性技术.最基本和最核心的工艺是深度同步辐射光刻,只有深度同步辐射光刻刻蚀出比较理想的光刻胶图形,才能保证制作出高质量的其它材料(如金属)结构图形.LIGA技术在Wisconsin大学得到进一步发展,使之能够实现各零件的组合和装配.

关 键 词:同步辐射  光刻  LIGA  超微细加工
收稿时间:1994-04-11
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