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电子束物理气相沉积钇钛合金薄膜的组分和厚度分布
引用本文:李帅辉,舒勇华,樊菁.电子束物理气相沉积钇钛合金薄膜的组分和厚度分布[J].中国科学(E辑),2008,38(7):1106-1117.
作者姓名:李帅辉  舒勇华  樊菁
作者单位:中国科学院力学研究所高温气体动力学重点实验室, 北京 100190
摘    要:大面积薄膜的组分和厚度分布是实际工艺中最为关心的问题之一. 利用实验和直接模拟Monte Carlo(DSMC)方法, 分别研究了双电子束和三电子束物理气相沉积(EBPVD)中, 钇和钛蒸气原子的三维低密度、非平衡射流, 获得了它们在100和150 mm单晶硅基片表面的沉积厚度和组分的分布. DSMC结果与钇和钛的蒸发速率的石英晶振探头原位测量值, 沉积薄膜厚度分布的台阶仪和Rutherford背散射仪的测量数据, 沉积薄膜组分分布的Rutherford背散射仪和电感耦合等离子体原子发射光谱仪测量值, 均相符甚好. 这表明通过DSMC方法与精细测量相结合, 可在原子水平上实现EBPVD输运工艺的定量预测和设计.

关 键 词:薄膜  厚度和组分分布  蒸气原子  非平衡输运  电子束物理气相沉积
收稿时间:2007-01-23
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