| 铜离子-铜铁试剂络合物在碳糊电极上的吸附伏安行为 |
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| 引用本文： | 夏新泉,张海丽.铜离子-铜铁试剂络合物在碳糊电极上的吸附伏安行为[J].湘潭大学自然科学学报,2006,28(2):70-72. |
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| 作者姓名： | 夏新泉 张海丽 |
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| 作者单位： | 湖北师范学院,化学与环境工程学院,黄石,435003 |
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| 基金项目： | 湖北省教育厅重点资助项目(D20052203)，湖北省教育厅创新团队资助项目(鄂科教技[2004]7号) |
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| 摘 要： | 研究了铜铁试剂与铜的络合物在碳糊电极上的电化学行为,在pH=4.1的B-R缓冲溶液介质中,铜铁试剂与铜离子络合物的半阶微分还原峰电位为-0.75 V(vs.SCE),其峰电流与铜离子的浓度在5.0×10-7~2.0×10-5mol/L范围内成良好的线性,r=0.995 7;检测限为1.1×10-7mol/L.用该法测定了米粉中铜含量.
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| 关 键 词： | 铜铁试剂 铜 碳糊电极 吸附伏安法 |
| 文章编号： | 1000-5900（2006）02-0070-03 |
| 收稿时间： | 2005-09-28 |
| 修稿时间： | 2005-09-28 |
Study on the Adsorptive-voltammetric Behavior of the Complex of Copper and Cps at Paste Carbon Electrode |
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| XIA Xin-quan,ZHANG Hai-li.Study on the Adsorptive-voltammetric Behavior of the Complex of Copper and Cps at Paste Carbon Electrode[J].Natural Science Journal of Xiangtan University,2006,28(2):70-72. |
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| Authors: | XIA Xin-quan ZHANG Hai-li |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Cupferron Copper Paste carbon electrode Adsorptive-voltammetry |
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