|
|||||
|
|
| 单晶硅表面键合光敏染料的研究 | |
| 引用本文： | 陶鹰翔.单晶硅表面键合光敏染料的研究[J].科学通报,1991,36(5):349-349. |
| 作者姓名： | 陶鹰翔 |
| 作者单位： | 西北大学化学系，西北大学化学系，西北大学化学系，西北大学物理系 西安 710069，西安 710069，西安 710069，西安 710069 |
| 摘 要： | 80年代以来,随着半导体光电技术的飞速发展,光电器件在越来越多的领域中得到应用.但是,由于半导体材料本身性质上的限制,使其在光电转换及光谱响应范围等方面还存在着许多问题.例如,目前的硅太阳能电池,其光电转换效率已达17％,这与理论值21.6％已经很接近,要想突破21.6％的理论值,就必须寻求新的途径,彻底改变光电材料的性质.在单晶硅表面键合光敏染料,正是在这方面的一种探索. |
| 关 键 词： | 单晶 硅 键合 光敏染料 表面 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
| 点击此处可从《科学通报》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《科学通报》下载免费的PDF全文 | |