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氢原子与H-Si(100)表面作用提取的氢分子角分布研究
引用本文:阳生红. 氢原子与H-Si(100)表面作用提取的氢分子角分布研究[J]. 中山大学学报(自然科学版), 2007, 46(6): 30-33
作者姓名:阳生红
作者单位:中山大学光电材料与技术国家重点实验室//物理科学与工程技术学院,Laboratoire de Physique des Interfaces et des Couches Minces CNRS,Ecole Polytechnique,91128 Palaiseau Cedex,France,广东广州510275
基金项目:教育部留学回国人员科研启动基金
摘    要:利用可旋转四极质谱仪对氢原子束与氢化Si(100)表面作用中氢提取反应产生的氢分子角分布进行了系统的分析。发现氢原子束与氢化Si(100)表面作用中,从氢化Si(100)表面脱附的氢分子具有较宽的角分布,并可以用函数cosnθf(其中n<1)拟合氢分子角分布。脱附的氢分子角分布与Si(100)表面温度和表面重构模型无关。根据硅表面重构机制,用非活性脱氢模型对实验结果进行了合理的解释。

关 键 词:四极质谱仪  氢化Si(100)表面  脱附  氢分子角分布
文章编号:0529-6579(2007)06-0030-04
收稿时间:2007-03-26
修稿时间:2007-03-26

Angle Distribution Study of H2 Molecules Produced in The Abstaction Reaction of Incident H Atoms on H-Si(100)
CHTELET Marc,YANG Sheng-hong,CHTELET Marc. Angle Distribution Study of H2 Molecules Produced in The Abstaction Reaction of Incident H Atoms on H-Si(100)[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni, 2007, 46(6): 30-33
Authors:CHTELET Marc  YANG Sheng-hong  CHTELET Marc
Affiliation:CH(A)TELET Marc,YANG Sheng-hong,CH(A)TELET Marc
Abstract:
Keywords:quadrupole mass spectrometer   hydrogenated Si(100) surface   desorbing   angle distributions of H2 molecules
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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