| 二氧化硅厚膜材料的快速生长及其致密化处理 |
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| 引用本文： | 吴远大,邢华,卓仲畅,余永森,郑伟,刘国范,张玉书. 二氧化硅厚膜材料的快速生长及其致密化处理[J]. 吉林大学学报(理学版), 2001, 0(4): 53-56 |
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| 作者姓名： | 吴远大 邢华 卓仲畅 余永森 郑伟 刘国范 张玉书 |
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| 作者单位： | 吉林大学电子科学与工程学院, |
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| 基金项目： | 国家 973项目资助 (批准号 :G2 0 0 0 36 6 0 2 ) |
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| 摘 要： | 采用火焰水解法 ( FHD)在 Si片上快速淀积出 Si O2 厚膜材料 ,材料膜厚 40 μm以上 ,生长速率 8μm/ min.将该材料分别在真空中和空气中高温致密化处理 ,获得各种形态的二氧化硅厚膜材料 .利用 XRD,SEM,电子显微镜等仪器对 Si O2 膜的表面和膜厚进行测试分析
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| 关 键 词： | 火焰水解法(FHD) 高温致密化 玻璃态SiO2 |
| 文章编号： | 0529-0279(2001)04-0053-04 |
| 修稿时间： | 2001-06-27 |
Quick Deposition and Consolidation of Silica Thick Films |
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| WU Yuan-da,XING Hua,ZHUO Zhong-chang,YU Yong-sen,ZHENG Wei,LIU Guo-fan,ZHANG Yu-shu. Quick Deposition and Consolidation of Silica Thick Films[J]. Journal of Jilin University: Sci Ed, 2001, 0(4): 53-56 |
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| Authors: | WU Yuan-da XING Hua ZHUO Zhong-chang YU Yong-sen ZHENG Wei LIU Guo-fan ZHANG Yu-shu |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | flame hydrolysis deposition (FHD) consolidation silica glass |
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