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取向碳纳米管膜的大面积制备及其场发射性能的研究
引用本文:葛颂,冯孙齐,俞大鹏,张广宇,刘双. 取向碳纳米管膜的大面积制备及其场发射性能的研究[J]. 北京大学学报(自然科学版), 2003, 39(3): 341-346
作者姓名:葛颂  冯孙齐  俞大鹏  张广宇  刘双
作者单位:1. 北京大学物理学院,人工微结构和介观物理国家重点实验室,北京,100871
2. 中国科学院物理研究所,表面物理国家重点实验室,北京,100080
基金项目:国家自然科学基金;60071014;
摘    要:利用热丝增强化学气相沉积法 ,在镀Ni的Si基片上成功地生长大面积取向碳纳米管膜 ,并研究了其场发射性质。研究表明 ,碳纳米管膜的场发射Fowler Nordheim曲线上存在一转折点Es(“饱和”场强 ) ,低场区域 (E Es)区域。实验证实 ,低场区域的场放大系数 β与极间距d成正比 ,Es 与极间距d成反比 ,它们可用双区域场模型唯像地解释。讨论了高场区域场发射电流“饱和”(变化趋缓 )的可能机制

关 键 词:取向碳纳米管膜 场发射 Fowler-Nordheim公式 场放大系数β

Synthesis and Field Emission Study of Large-scaled Aligned Carbon Nanotube Films
GE Song FENG Sunqi YU Dapeng. Synthesis and Field Emission Study of Large-scaled Aligned Carbon Nanotube Films[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Pekinensis, 2003, 39(3): 341-346
Authors:GE Song FENG Sunqi YU Dapeng
Abstract:
Keywords:
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