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高密度磁记录用FePt/Ta多层膜微结构与磁性
引用本文:甄聪棉,翟晓霞,马丽,聂向富.高密度磁记录用FePt/Ta多层膜微结构与磁性[J].河北师范大学学报(自然科学版),2006,30(1):36-39.
作者姓名:甄聪棉  翟晓霞  马丽  聂向富
作者单位:河北师范大学,物理科学与信息工程学院,河北,石家庄,050016
基金项目:中国科学院资助项目 , 河北师范大学校科研和教改项目
摘    要:采用直流对靶磁控溅射方法生长了FePt/Ta多层膜.X射线衍射(XRD)分析表明FePt(2.5.nm)/Ta(2.5 nm)]5样品经过650℃退火实现了从无序到有序的转变.磁测量表明当Ta层厚度为2.5 nm时,FePt的磁特性达到最好,矫顽力为543.4 kA·m-1,矩形比也达到最大(0.805 59).原子力显微图观察发现,650℃退火后的样品纳米晶粒分布比较均匀,粒径大约为10~20 nm.磁力显微图观察说明大量粒子取向一致.计算得到激活体积远大于晶粒体积的事实说明薄膜的磁化反转过程主要是由磁矩转动控制的.

关 键 词:磁记录  FePt  多层膜  XRD  VSM
文章编号:1000-5854(2006)01-0036-04
收稿时间:2005-06-01
修稿时间:2005年6月1日

Microstructure and Magnetic Properties of FePt/Ta Multilayer Film for Ultrahigh Density Magnetic Recording
ZHEN Cong-mian,ZHAI Xiao-xia,MA Li,NIE Xiang-fu.Microstructure and Magnetic Properties of FePt/Ta Multilayer Film for Ultrahigh Density Magnetic Recording[J].Journal of Hebei Normal University,2006,30(1):36-39.
Authors:ZHEN Cong-mian  ZHAI Xiao-xia  MA Li  NIE Xiang-fu
Abstract:
Keywords:magnetic recording  FePt  multilayer film  XRD  VSM
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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