| 表面等离子体超衍射光学光刻 |
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| 引用本文： | 王长涛,赵泽宇,高平,罗云飞,罗先刚.表面等离子体超衍射光学光刻[J].科学通报,2016(6):585-599. |
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| 作者姓名： | 王长涛 赵泽宇 高平 罗云飞 罗先刚 |
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| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(2013CBA01700);国家自然科学基金(61575204)资助 |
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| 摘 要： | 由于光波衍射特性,传统光学光刻面临分辨力衍射极限限制,成为传统光学光刻技术发展的原理性障碍.表面等离子体(surface plasmon,SP)是束缚在金属介质界面上的自由电子密度波,具有突破衍射极限传输、汇聚和成像的独特性能.近年来,通过研究和利用SP超衍射光学特性,科研人员提出和建立了基于SP的纳米干涉光刻、成像光刻、直写光刻等方法,在紫外光源和单次曝光条件下,获得了突破衍射极限的光学光刻分辨力.目前,基于SP成像结构,实验中获得了22 nm(~1/17波长)最高SP成像光刻线宽分辨力水平.SP将为发展高分辨、低成本、高效、大面积纳米光学光刻技术提供重要方法和技术途径.本文系统综述了SP光学光刻技术研究发展情况,总结和分析了技术发展现状、存在问题,并对其发展趋势和前景进行了展望.
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| 关 键 词： | 表面等离子体 光学光刻 超分辨 衍射极限 |
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