|
|||||
|
|
| 低压铜基甲醇合成催化剂活性表面的XPS和TPD表征 | |
| 引用本文： | 陈鸿博,蔡俊修.低压铜基甲醇合成催化剂活性表面的XPS和TPD表征[J].厦门大学学报(自然科学版),1990,29(4):411-415. |
| 作者姓名： | 陈鸿博 蔡俊修 |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | 铜基 甲醇 催化剂 活性 XPS TPD |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |