首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

反应溅射中靶材成份对Si—Cr—Ni—O薄膜形成的XPS分析
引用本文:王家敏,吴建生.反应溅射中靶材成份对Si—Cr—Ni—O薄膜形成的XPS分析[J].上海交通大学学报,1995,29(3):124-128.
作者姓名:王家敏  吴建生
摘    要:

关 键 词:反应溅射  靶材  薄膜  XPS
本文献已被 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号