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固相烧结多孔碳化硅的光致发光及电阻率
引用本文:昝祥,陈治明,马剑平,封先锋,蒲红斌.固相烧结多孔碳化硅的光致发光及电阻率[J].西安理工大学学报,2003,19(2):120-123.
作者姓名:昝祥  陈治明  马剑平  封先锋  蒲红斌
作者单位:西安理工大学,自动化与信息工程学院,陕西,西安,710048
摘    要:碳化硅粉末经压制成型后,在高温常压下固相烧结制成多孔碳化硅样品。用紫外激光对样品激发,样品的光致发光谱在低温下在2.02eV位置出现一发光主峰,在2.13eV位置出现一微弱肩峰;在室温下发光峰位置有所蓝移。样品的电阻率随着烧结温度的上升而上升,随着成型压力的升高而降低。发光来自缺陷态。

关 键 词:多孔碳化硅  烧结  光致发光  电阻率
文章编号:1006-4710(2003)02-0120-04
修稿时间:2002年12月19

Photoluminescence and Electrical Resistivity of Solid-Sintered Porous SiC
Abstract:
Keywords:porous SiC  sintering  photoluminescence  electrical resistivity
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