| 纳米硅薄膜材料在场发射压力传感器研制中的应用 |
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| 引用本文： | 廖波,谢君堂,仲顺安,王静静,张大成,李婷,郝一龙,罗葵.纳米硅薄膜材料在场发射压力传感器研制中的应用[J].中国科学(E辑),2003,33(3):205-208. |
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| 作者姓名： | 廖波 谢君堂 仲顺安 王静静 张大成 李婷 郝一龙 罗葵 |
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| 作者单位： | 1. 北京理工大学信息科学技术学院,北京,100081
2. 北京大学微电子中心,北京,100871 |
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| 基金项目： | 国防科技重点实验室基金试点项目(批准号:00JS97.2.3.BQ0108) |
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| 摘 要： | 设计研制了一种基于量子隧道效应机制的场发射压力传感器原型器件, 用CVD技术制备了粒径为3 ~ 9 nm, 厚度为30 ~ 40 nm的纳米硅薄膜, 并同时把这种低维材料引入到传感器阴极发射尖锥的制作, 形成纳米硅薄膜为实体的发射体结构. 用HREM及TED分析了纳米硅态的显微特性, 用场发射扫描电子显微镜SEM分析了发射体及阵列的微观结构, 用HP4145B晶体管参数测试仪考察了传感器件的场发射特性. 实验结果表明, 当外加电场为5.6×105 V/m时, 器件有效区域发射电流密度可达53.5 A/m2.
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| 关 键 词： | 场发射压力传感器 场发射特性 纳米硅薄膜 |
| 收稿时间： | 2002-03-18 |
| 修稿时间： | 2002-10-20 |
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