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纳米ZnO薄膜的制备
引用本文:宋淑芳,李健,季秉厚. 纳米ZnO薄膜的制备[J]. 内蒙古大学学报(自然科学版), 2001, 32(5): 504-507
作者姓名:宋淑芳  李健  季秉厚
作者单位:内蒙古大学理工学院物理系
基金项目:“九五”国家重点攻关科技项目 96-A1 7
摘    要:采用真空气相沉积法,使用两种蒸发源制备纳米ZnO薄膜,用XRD(X射线衍射)进行测试并进行其结构特性分析。研究发现,蒸发源为分析纯Zn粉末时,蒸发可获得纳米Zn薄膜,薄膜在氧气气氛下同时进行氧化及热处理。实验发现,当温度高于400℃,得到沿c轴择优取向的纳米ZnO薄膜,蒸发源为分析纯ZnO粉末时,采用钼舟加热,高温下ZnO与钼舟发生反应,使部分ZnO还原为Zn,因此这种方法不适合纳米ZnO薄膜的制备。

关 键 词:纳米ZnO薄膜 真空气相沉积 制备 纳米技术 氧化锌薄膜 热处理 蒸发源
文章编号:1000-1638(2001)05-0504-04
修稿时间:2000-09-01

The Preparation of Nano-ZnO Thin Films
SONG Shufang,LI Jian,JI BING hou. The Preparation of Nano-ZnO Thin Films[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Neimongol, 2001, 32(5): 504-507
Authors:SONG Shufang  LI Jian  JI BING hou
Abstract:
Keywords:ZnO thin films  Nano  vacuum vapor deposition  preparation
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