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分子印迹CS@SiO2聚合物吸附性能评价
引用本文:吴振岳,马秀玲,黄丽梅,曾宝珊,陈盛.分子印迹CS@SiO2聚合物吸附性能评价[J].福建师范大学学报(自然科学版),2014(2):64-69.
作者姓名:吴振岳  马秀玲  黄丽梅  曾宝珊  陈盛
作者单位:福建师范大学环境科学与工程学院;福建师范大学化学与化工学院;福建师范大学福清分校;
基金项目:国家自然科学基金资助项目(21207018);福建省教育厅资助项目(B070102)
摘    要:以壳聚糖为功能体,柚皮苷为印迹分子,将壳聚糖负载到二氧化硅(CS@SiO2)上,制成柚皮苷(NG)印迹CS@SiO2,用XRD、FT-IR、SEM等测试技术对该印迹聚合物进行分析表征,探讨了印迹CS@SiO2对印迹分子柚皮苷的吸附特性.实验表明,印迹聚合物的吸附特性优于非印迹聚合物.分别用Langmuir和Freundlich等温吸附模型拟合印迹CS@SiO2对NG的吸附等温线,印迹CS@SiO2对NG的吸附符合Langmuir吸附等温方程.印迹聚合物对印迹分子的印迹效率α为1.74,采用橙皮苷作竞争性吸附底物,选择因子β为2.00.

关 键 词:壳聚糖  二氧化硅纳米粒子  柚皮苷  分子印迹
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