荧光分析法测定金属铝箔中的微量镓 |
| |
作者姓名: | 许金钩 黄贤智 卢泽聪 顾群 |
| |
作者单位: | 厦门大学化学系,厦门大学化学系,厦门大学化学系,厦门大学化学系 85届分析专业毕业生,86届分析专业毕业生 |
| |
摘 要: | Ga~(3 )与Al~(3 )两者离子半径相近,化学性质类似,因此镓是金属铝中常见的杂质之一。荧光法是金属铝中微量镓测定的常用方法。应用表面活性剂的,见于镓-荧光镓(或其同系物)测定体系。8羟基喹啉(Oxine)曾用于硅酸岩中微量镓的萃取-荧光测定。本文研究了Ga~(3 )-Oxine-表面活性剂体系荧光测定的合适条件,并应用于金属铝箔中微量镓的测定。
|
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|