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DOI
责任编辑
分类号
杂志ISSN号
c轴取向Bi
4
Ti
3
O
12
铁电薄膜的制备与光学性质
作者姓名:
顾豪爽
李湘云
王世敏
包定华
李洪彬
邝安祥
()李兴教
作者单位:
湖北大学压电陶瓷技术研究所!武汉430062(顾豪爽,李湘云,王世敏,包定华,李洪彬,邝安祥),华中理工大学固体电子学系!武(李兴教)
基金项目:
湖北省教育委员会重点资助项目
摘 要:
Bi-4Ti-3O-(12)(BIT)是一种重要的铁电材料,Curie温度为675℃,自发极化矢量位于a-c平面上有两个分量,在外场作用下可以各自独立地反向,且沿c方向矫顽场强很低,为3.skV/cm.开关速度快,抗辐射能力强,抗疲劳特性好.在无外场作用下能保持记忆,具有与半导体工艺集成的潜力.特别是c轴取向的BIT薄膜不仅能作电场记忆,还能实现光记忆,很适合作铁电存储器、电光器件、光存储显示材料,具有广泛的研究开发和应用前景,该材料已成为当今国际上研究的主要材料之一.
关 键 词:
Bi4Ti3O12 c轴取向 铁电薄膜 制备 光学性质
收稿时间:
1995-01-12
修稿时间:
1995-05-22
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