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| Si_3N_4-AlN新型陶瓷薄膜及其特性 | |
| 引用本文： | 孙金坛 ,邱德润.Si_3N_4-AlN新型陶瓷薄膜及其特性[J].合肥工业大学学报(自然科学版),1993(4). |
| 作者姓名： | 孙金坛 邱德润 |
| 摘 要： | 我们用直流反应溅射沉积Si_3N_4-ALN陶瓷薄膜,红外吸收光谱证明膜中含有Si-N键和Al-N键。x射线衍射证明在300℃低温下沉积的薄膜是非晶膜。此外,我们还测量了硬度、结合力、膜的应力、电阻率和光收率等,实验表明Si_SN_4-ALN膜具有高的硬度和结合力,优良的机械、光、电特性。 |
| 关 键 词： | 氮化硅-氮化铝 薄膜 直流反应溅射 结合力 硅-氮键 铝-氮键 非晶膜 |
A NEW-TYPE COMPOSITE CERAMIC THIN FILM-Si_3N_4-AlN |
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| Sun Jintan Qin Derun.A NEW-TYPE COMPOSITE CERAMIC THIN FILM-Si_3N_4-AlN[J].Journal of Hefei University of Technology(Natural Science),1993(4). | |
| Authors: | Sun Jintan Qin Derun |
| Institution: | Sun Jintan Qin Derun |
| Abstract: | |
| Keywords: | Si_3-N_4-AlN Thin film D C reactive sputtering Cohesive force Si-N bonds Al-n bonds Amorphius film |
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