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| 离子束增强沉积纳米Fe—N磁性膜 | |
| 引用本文： | 李贵斌 雷明凯. 离子束增强沉积纳米Fe—N磁性膜[J]. 大连理工大学学报, 1997, 37(2): 212-216 |
| 作者姓名： | 李贵斌 雷明凯 |
| 作者单位： | [1]大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 [2]大连理工大学材料工程系 |
| 摘 要： | 利用高能量（〉１５ｋｅＶ）、脉冲氮离子束增强沉积（ＩＢＥＤ）Ｆｅ－Ｎ磁性薄膜。合成了含有α－Ｆｅ、α″－Ｆｅ１６Ｎ２、γ＇－Ｆｅ４Ｎ和ε－Ｆｅ２￣３Ｎ相的纳米多晶薄膜。Ｆｅ－Ｎ薄膜的磁性取决于膜层的相结构及微观形貌。纳米尺度的α″－Ｆｅ１６Ｎ２和α－Ｆｅ相的混合物膜层的饱和磁性强度可达２４５ｅｍｕ／ｇ。多元ＩＢＥＤ Ｆｅ－Ｃｏ－Ｎ合金薄膜与相同制备条件下合成的Ｆｅ－Ｎ薄膜相比，其相结构相似，但饱和 |
| 关 键 词： | 磁性材料 薄膜 磁性膜 离子束增强沉积 |
Formation of nanometer magnetic iron nitride films by ion beam enhanced deposition |
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| Li Guibin a),Lei Mingkai a),b),Li Guoqing a),Liu Bangzhi a) a) State Key Lab. for Mater. Modif. by Laser,Ion and Electron Beams,Dalian Univ. of Technol.,China b) Dept. of Mater. Eng.,Dalian Univ. of Technol.,Chin. Formation of nanometer magnetic iron nitride films by ion beam enhanced deposition[J]. Journal of Dalian University of Technology, 1997, 37(2): 212-216 | |
| Authors: | Li Guibin a) Lei Mingkai a) b) Li Guoqing a) Liu Bangzhi a) a) State Key Lab. for Mater. Modif. by Laser Ion Electron Beams Dalian Univ. of Technol. China b) Dept. of Mater. Eng. Dalian Univ. of Technol. Chin |
| Abstract: | |
| Keywords: | ion beam modification deposition magnetic materials/iron nitride films |
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