| 钛、钽及铬熔融盐电镀的研究进展 |
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| 引用本文： | 张皓东 谢刚 李荣兴 陈书荣. 钛、钽及铬熔融盐电镀的研究进展[J]. 科学技术与工程, 2004, 4(6): 504-507 |
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| 作者姓名： | 张皓东 谢刚 李荣兴 陈书荣 |
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| 作者单位： | 昆明理工大学环境科学与工程学院,昆明,650093;昆明理工大学材料与冶金工程学院,昆明,650093 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金 ( 5 0 0 740 19)资助 |
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| 摘 要： | 综述了钛、钽及铬熔融盐电镀研究的动态。回顾了钛、钽及铬熔融盐电镀发展的历程、取得的成果以及今后发展的趋势，并希望国内的研究加快步伐，推进钛、钽及铬熔融盐电镀工艺在生产中的应用，也提出了有关熔融盐电镀存在的很多有待解决的问题。
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| 关 键 词： | 钛 钽 铬 熔盐电镀 |
| 文章编号： | 1671-1815(2004)06-0504-04 |
| 修稿时间： | 2004-03-17 |
Research Development of Melt Salt Electroplate of Rare Metal |
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| ZHANG Haodong,XIE Gang,LI Rongxing,CHEN Shurong. Research Development of Melt Salt Electroplate of Rare Metal[J]. Science Technology and Engineering, 2004, 4(6): 504-507 |
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| Authors: | ZHANG Haodong XIE Gang LI Rongxing CHEN Shurong |
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| Abstract: | The research status of molten salts electroplating of Ti, Ta and Cr are reviewed. While discussing the history, achievement and development of molten salts electroplating of Ti, Ta and Cr, the domestic researchers to try their best to accelerate the application of the Ti, Ta and Cr molten salts electroplating process in China is presented. The problems of molten salts electroplating of Ti, Ta and Cr are discussed. |
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| Keywords: | Ti Ta Cr molten salts electroplating |
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