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磁控溅射法制备FeCu薄膜
引用本文:张伟,张玉梅,王永红,李海波.磁控溅射法制备FeCu薄膜[J].松辽学刊,2009,30(2):90-91,94.
作者姓名:张伟  张玉梅  王永红  李海波
作者单位:吉林师范大学,凝聚态物理与材料科学研究所,吉林,四平,136000  
基金项目:教育部科技研究重点项目,吉林师范大学研究生创新科研计划 
摘    要:采用直流磁控溅射在Si (001)基片上制备了FeCu纳米薄膜,薄膜样品分别经过300~600 ℃退火处理1 h.利用X射线衍射仪和振动样品磁强计对样品的结构和磁性进行了测量和分析.结果表明,沉积得到的亚稳态FeCu合金在300 ℃时发生相分离,随温度的升高,晶粒长大,相分离程度增强.在300~500 ℃范围内样品的矫顽力随温度的升高而变大,当退火温度为600 ℃时矫顽力变小.

关 键 词:磁控溅射  FeCu薄膜  结构  磁性

Preparition of FeCu Thin Films by Magnetron Sputtering
ZHANG Wei,ZHANG Yu-mei,WANG Yong-hong,LI Hai-bo.Preparition of FeCu Thin Films by Magnetron Sputtering[J].Songliao Journal (Natural Science Edition),2009,30(2):90-91,94.
Authors:ZHANG Wei  ZHANG Yu-mei  WANG Yong-hong  LI Hai-bo
Abstract:
Keywords:
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