| 硅的等离子阳极氧化研究 |
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| 引用本文： | 李琼,徐静芳. 硅的等离子阳极氧化研究[J]. 上海师范大学学报(自然科学版), 1991, 0(4) |
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| 作者姓名： | 李琼 徐静芳 |
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| 作者单位： | 华东师范大学电子科学系，华东师范大学电子科学系 |
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| 摘 要： | 等离子阳极化是一种先进的半导体材料氧化技术,本文评论了目前国际上等离子阳极化技术的进展,报告了我们自己的独创工作。说明了本技术用于半导体器件加工的优点与主要困难。文中较详细地说明了我们自己发展的一种射频激励的直流放电模式及根据它设计的设备。利用这种设备成功地进行了等离子阴极化,并将这种氧化物用于MOSFET的栅区。
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| 关 键 词： | 等离子体阳极化技术 半导体材料氧化作用 栅氧化物 |
The Study of Plasma Anodization for Sili con Oxide Growth |
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| LI QING,XU JINGFANG. The Study of Plasma Anodization for Sili con Oxide Growth[J]. Journal of Shanghai Normal University(Natural Sciences), 1991, 0(4) |
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| Authors: | LI QING XU JINGFANG |
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| Affiliation: | Department of Electronic Science and Technology |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Plasma anodization oxidaton of semiconductor material gate oxide |
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