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p-Si TFT的电场增强MILC制备技术
引用本文:曾祥斌.p-Si TFT的电场增强MILC制备技术[J].华中科技大学学报(自然科学版),2006,34(7):85-87.
作者姓名:曾祥斌
作者单位:华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074
摘    要:采用电场增强金属诱导侧向晶化方法获得了结晶良好的多晶硅薄膜,并采用该工艺制备了p沟道薄膜晶体管器件,其迁移率为65cm2/(V·s),开关态电流比为5×106.采用拉曼光谱分析、X射线衍射、扫描电镜等微观分析手段对多晶硅薄膜进行了分析,结果表明加电场于两电极之间有促进多晶硅薄膜晶化的作用.采用EFE-MILC技术获得了大的晶粒尺寸,并用此技术制备了p沟多晶硅TFT.表明EFE-MILC技术是在低温下获得大晶粒尺寸p-Si薄膜和高性能p-SiTFT的好方法.

关 键 词:金属诱导侧向晶化  电场增强晶化  多晶硅薄膜  薄膜晶体管
文章编号:1671-4512(2006)07-0085-03
收稿时间:2005-05-31
修稿时间:2005年5月31日

Preparation of poly-Si thin films and TFTs by electric-field enhanced metal-induced lateral crystallization
Zeng Xiangbin.Preparation of poly-Si thin films and TFTs by electric-field enhanced metal-induced lateral crystallization[J].JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE,2006,34(7):85-87.
Authors:Zeng Xiangbin
Abstract:
Keywords:metal-induced lateral crystallization (MILC)  electric-field enhanced crystallization  polycrystalline silicon thin film  thin film transistor (TFT)
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