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| MPCVD低温沉积金刚石薄膜及其特征 | |
| 引用本文： | 吕反修,杨保雄.MPCVD低温沉积金刚石薄膜及其特征[J].北京科技大学学报,1992,14(2):168-175. |
| 作者姓名： | 吕反修 杨保雄 |
| 作者单位： | 北京科技大学材料系 (吕反修，杨保雄)，北京科技大学材料系(蒋高松) |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | 金刚石薄膜 低温沉积 微波等离子体 |
Low Temperature Deposition and Characterization of Diamond Thin Films by MPCVD+ |
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| Lu Fanxiu Yang Baoxion Jiang Gaosong CDept.of Materials Science and Engineering,.Low Temperature Deposition and Characterization of Diamond Thin Films by MPCVD+[J].Journal of University of Science and Technology Beijing,1992,14(2):168-175. | |
| Authors: | Lu Fanxiu Yang Baoxion Jiang Gaosong CDeptof Materials Science and Engineering |
| Institution: | Lu Fanxiu Yang Baoxion Jiang Gaosong CDept.of Materials Science and Engineering; |
| Abstract: | |
| Keywords: | diamond film low temperature deposition microware plasma |
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