| 平面V形切口双应力强度因子的光弹性实验研究 |
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| 引用本文： | 柳兆涛,刘一华,王炯华.平面V形切口双应力强度因子的光弹性实验研究[J].合肥工业大学学报(自然科学版),2002,25(1):59-62. |
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| 作者姓名： | 柳兆涛 刘一华 王炯华 |
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| 作者单位： | 合肥工业大学土木建筑工程学院,安徽,合肥,230009 |
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| 摘 要： | 文章在分析具有双重应力奇异性平面 V形切口尖端应力场的基础上 ,提出了基于由光弹性实验获得的等差线确定与双重应力奇异性对应的双应力强度因子 K1 、K2 的光弹性实验方法 ,并通过对模型的光弹性实验 ,运用该方法较好地确定了均质材料 60°单应力奇异性 V型对称切口模型和均质材料 45°双重应力奇异性 V型非对称切口模型的应力强度因子 ,验证了该文中提出的方法的正确性
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| 关 键 词： | 光弹性 双重应力奇异性 应力强度因子 |
| 文章编号： | 1003-5060(2002)01-0059-04 |
| 修稿时间： | 2001年8月17日 |
Photoelastic investigation on double stress intensity factors of V-notch in a plate |
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| LIU Zhao tao,LIU Yi hua,WANG Jiong hua.Photoelastic investigation on double stress intensity factors of V-notch in a plate[J].Journal of Hefei University of Technology(Natural Science),2002,25(1):59-62. |
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| Authors: | LIU Zhao tao LIU Yi hua WANG Jiong hua |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | photoelasticity double stress singularities stress intensity factors |
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