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| ICP—AES法测定工业硅中杂质含量 | |
| 引用本文： | 杨晶秋,孙晓红.ICP—AES法测定工业硅中杂质含量[J].中国新技术新产品精选,2009(16):18-18. |
| 作者姓名： | 杨晶秋 孙晓红 |
| 作者单位： | 机械科学研究院哈尔滨焊接研究所,黑龙江哈尔滨150080 |
| 摘 要： | 研究了利用ICP—AES法测定工业硅中杂质元素Fe、Al、Ca的方法，建立了最佳工作条件，检出限小于0．003％，回收率在95—101％之间，RSD小于1％。方法简便快速，有好的精密度和准确度。 |
| 关 键 词： | ICP—AES 工业硅 杂质元素 |
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