金刚石薄膜的强流脉冲发射特性 |
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引用本文: | 王兵,夏连胜,张篁,张开志,何婷,叶勤艳. 金刚石薄膜的强流脉冲发射特性[J]. 西南科技大学学报, 2009, 24(3): 5-10 |
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作者姓名: | 王兵 夏连胜 张篁 张开志 何婷 叶勤艳 |
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作者单位: | 1. 西南科技大学材料科学与工程学院,四川绵阳,621010 2. 中国工程物理研究院流体物理研究所,四川绵阳,621900 |
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基金项目: | 国家自然科学基金资助项目,国防基础科研项目 |
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摘 要: | 采用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)技术以不同气源在优化的工艺条件下制备不同类型的金刚石薄膜作为强流脉冲电子发射阴极材料,用SEM、AFM、FTIR和Raman光谱分析不同金刚石薄膜的组成结构,用2 MeV直线感应型强流电子注入器平台检测强流脉冲发射特性.结果表明,不同类型的金刚石薄膜均具有较强的脉冲电子发射能力,发射电流密度均可达70 A/cm2以上;各膜材的发射电流密度和稳定性相差很大,相对而言,以Ar+CO2+GH4+B2H6制备的掺B微米金刚石薄膜能获得的初始电流最大,达到115 A/cm2,其多次脉冲发射稳定性也较好,波动范围在33%以内,且能保证发射电流密度均在84 A/cm2以上,是有希望的强流多脉冲电子发射阴极候选材料.
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关 键 词: | 金刚石膜 脉冲 电子发射 强流阴极 |
Study on the High-current Emission Characteristics of Diamond Films |
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Abstract: | |
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Keywords: | |
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