| 铝箔电化学侵蚀隧道孔生长速度研究 |
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| 引用本文： | 肖仁贵,闫康平.铝箔电化学侵蚀隧道孔生长速度研究[J].贵州工业大学学报(自然科学版),2008,37(5). |
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| 作者姓名： | 肖仁贵 闫康平 |
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| 作者单位： | 1. 贵州大学化学工程学院,贵州贵阳,550003
2. 四川大学化工学院,四川成都,610065 |
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| 基金项目： | 贵州省科学技术基金项目(2008,2207); 四川省科技攻关项目(2006,Z08-001-4) |
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| 摘 要： | 在提出铝箔电化学脉冲侵蚀模型的基础上,进一步探讨铝箔电蚀隧道孔生长速度影响因素,推导出铝箔电蚀隧道孔生长速度公式：u=0.4 iave（μm.s^-1）（iave：单个脉冲侵蚀过程中隧道孔顶端面平均电流密度A.cm^-2）.
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| 关 键 词： | 铝箔 侵蚀 电化学 隧道孔 动力学过程 |
Research of Tunnel Growth in Aluminum Foil for Capacitor |
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| XIAO Ren-gui,YAN Kang-ping.Research of Tunnel Growth in Aluminum Foil for Capacitor[J].Journal of Guizhou University of Technology(Natural Science Edition),2008,37(5). |
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| Authors: | XIAO Ren-gui YAN Kang-ping |
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| Abstract: | On the basis of electrochemical etching model in aluminum foil for capacitor,the factor about tunnel growth velocity was discussed,and the calculation formula(u=0.4iave) was deduced. |
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| Keywords: | aluminum foil etching electrochemistry tunnel kinetics |
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