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对向靶溅射氮化铁梯度薄膜
作者姓名:姜恩永
作者单位:天津大学应用物理学系 天津300072(姜恩永,林川,刘裕光),清华大学材料科学与工程系 北京100084(孙多春),清华大学材料科学与工程系 北京100084(田民波)
基金项目:国家自然科学基金资助项目
摘    要:氮化铁薄膜具有优异的磁性能,同时又具有良好的耐腐蚀性,是一种优异的高密度磁记录磁头材料.目前已广泛确认的氮化铁系化合物共有4相,分别是α″-Fe_(16)N_2,γ′-Fe_4N,ε-Fe_xN(2≤x≤3)和ζ-Fe_2N.它们的磁矩和Curie温度随含氮量的增加而降低.Fe_(16)N_2在已发现的磁性材料中具有最高饱和磁通密度(2.8~3.0T),Fe_4N和Fe_xN(2≤x≤3)则分别为1.7和1.4T,Fe_2N在常温下为非磁性.铁氮化合物随着含氮量的增高,耐腐蚀性越来越好.作为高密

关 键 词:对向靶溅射 氮化铁 薄膜 梯度薄膜 磁性
收稿时间:1994-07-12
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